用途：
主要用于晶體生長(zhǎng)、化合反應(yīng)等工藝。
優(yōu)勢(shì)和特點(diǎn)：
工作溫度從常溫到2000℃，壓力達(dá)到10MPa。
可根據(jù)客戶實(shí)際需求定制。
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